Россия возвращается к литографии на 90 нм

Россия возвращается к литографии на 90 нм

Это не старт с нуля. В СССР такие разработки велись, но в начале 90-х направление фактически остановилось. Сейчас его пытаются собрать заново.

В 2026 году в России должна начаться работа над литографом для производства чипов по топологии 90 нм.

База уже есть: в Зеленограде ЗНТЦ совместно с белорусским Планаром довели до серийного уровня фотолитограф на 350 нм. Следующая ступень — 130 нм, а 90 нм станет отдельным конкурсом.

Важный момент: по зоне зрелых техпроцессов эта линия уже почти соизмерима с китайскими разработками. Речь не о вершине рынка, а о собственной инженерной платформе.

Главный вызов — не только станок. Нужны оптика, лазеры, фотошаблоны, материалы, EDA-инструменты и специалисты.

MUSIN PRO | MUSIN PRO MAX

#musinpro #omcon #микроэлектроника #чипы #технологии